两个区域CSS炉，旋转晶片支架，最高可达5x5英寸，在Max.800°C - OTF-1200x-RTP-II-5-R

OTF-1200X-RTP-II-5-R是一种先进的快速热处理炉，11" I.D.石英室和5" x5"旋转样品架。它是专为CSS薄膜涂层高达5英寸的圆形或方形晶圆样品，工作温度为800°C。加热炉由两组卤素加热器(顶部和底部)分别加热。10ºCS加热速度。顶部样品支架可旋转以实现高均匀性涂层。它是研究新一代薄膜的太阳能电池，如CDTE，硫化物和P.erovskite太阳能电池。

规格:

炉结构	炉膛、两个温度控制器、双通道气体流量计集成在一个移动铝合金框架内。 腔体采用高纯度熔融石英管，尺寸为11" OD/10.8" ID x 9" H。 真空凸缘由不锈钢316制成，并通过电动机提升。 两个5”x5”红外加热板和间距可调。 顶部样品架可在速度0 - 7 RPM时旋转。
真空法兰	顶部法兰与一个KFD-25真空端口和一个气体出口（所需1/4“管子）可以手动向上或向下滑动，以容易地装载和卸下基板并蒸发材料。 底部法兰有一个kfd-25真空端口，带有一个气体入口（需要1/4“管道），带有针阀。 法兰采用双硅o形环密封，可达到最大密封效果。真空压力为10e - 2torr机械泵和10E-5 Torr通过分子泵（不包括真空泵，请单独订购）。 顶部法兰上安装了一个数字真空测量仪。 精密防腐蚀数字真空计是标准包装（自2016.03.24起）．
加热器和样品架	两个独立控制的加热器，手动调节间隙从2 - 30毫米。 20个卤素灯用作加热元件，用于快速热处理。 加热器采用不锈钢制造，配有水冷套，减少热辐射，快速冷却。 5“Dia。圆形晶片支架内置于顶部加热器内，用于固定基片。 一套高导热AlN板(5”直径。x 0.5mm厚)包括(放置在基材的背面，使其加热均匀)。 采用58L/min循环水冷水机组，节约水源(详见下图)。 顶部样品架可在可调速度0 - 7转/分钟可旋转
温度控制器	两个精密数字温度控制器30段可编程提供独立的顶部和底部加热器控制。 每个控制器都有一个PID自动调节功能，以保护加热器从超调和报警功能，以防止过热损坏热电偶。 安装了PC通信接口和软件（单击下面的图片详情）记录温度曲线如下所示。
工作温度	每个加热器的最高温度:≤800℃。 两个加热器之间的最大温差:≤300ºC，取决于两个加热器之间的间距: 间距30 mm的马克斯。温度差:315ºC @加热底部仅
加热和冷却速度	加热:< 8ºC/s(单加热器加热) 冷却:< 10ºC/s(600 - 100ºC)
热电偶	两个K型热耦合分别安装在顶部和底部加热器上。
工作电压	208 - 240VAC，单相，50A空气断路器
电力需求	10千瓦总
维	（点击图片查看维度）
运输重量和尺寸	两个托盘：525磅和48" x 40" x 87"和165磅39x31x29"尺寸
可选	需要一个真空泵。请单击下面左侧的第一张照片单独订购。真空水平可以通过机械泵达到≤10E-2托。 如果使用腐蚀性气体，请使用冷疏水阀或图2-3所示的防腐干泵，另收费。 您可以选择数字MFC气体输送系统，点击右下角的第一张图片。
保修	一年有限于终身支持（石英管和加热灯等可消耗零件不被保修范围内）。
应用须知及警告	具有石英管的管炉设计用于真空和低压<0.2巴/ 3 psi / 0.02 MPa。真空压力可能仅安全使用高达1000°C。气体的流速应限于<200 sccm（或200ml / min），以减少管的热冲击。 一个TTENING.气瓶上必须安装两级压力调节器，将压力限制在3psi以下，以保证安全运行。 该炉脚架仅适用于在平坦表面(无凹坑或凸起)进行短距离牵引。

1.我们提供机器有电池技术支持。

2.我们供应全套的锂电池设备实验室研究，试点规模研究和生产林e。

1标准出口包装：内部抗污保护，外部出口木箱包装。

2 .发货方式有快递、空运、海运，可根据客户要求寻找最合适的方式。

3负责运输过程中的损坏，将免费改变您的损坏部分。