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生产线用电池电极间歇涂布机
200 c马克斯。小型实验室自动迷你片剂薄膜涂布机(10“Wx16”L)电池电极涂布
实验室薄膜流动涂布机无级变速涂布机
浸渍涂布机(1- 200mm /min)与干燥箱高达100°C
可编程控制立式浸涂机
带干燥箱的电池电极自动辊对辊连续涂膜机
实验室大型全自动镀膜机，配有真空吸盘和可调刀片
实验室台式槽模涂布机，用于高精度薄膜涂布
实验室台式单容器浸涂机
Si单晶Target, p掺杂(100)3" x 4.0 mm，未抛光- tg - sipa76d40cn- Si单晶Target, n型，未掺杂，(100)ori。， 3 "直径x 6.0毫米，精磨，R1000欧姆。cm- tg - siu76d60cn
ZnS Target, 99.99%，4"直径x1/8"，铜基板
Si单晶Target, n型，未掺杂4”x0.25”，未抛光R:1000欧姆。cm - TG-GaN15D30CN
含铜衬底和覆板的PbS靶，纯度:99.99%
用于蒸发的MgO单晶，切割尺寸为5x5x5mm- MgF2单晶蒸发，2.8-6mmm单位:克
LiNiCoMnO2薄膜电池正极靶- LiMn2O4薄膜电池正极靶
薄膜电池正极材料LiFePO4靶材- 用于蒸发的GaAs单晶，切割时直径为5x5x5毫米
- CdWO4单晶蒸发，5 × 5 × 5毫米切割
- 蒸发用CaF2单晶，切割尺寸为5x5x5mm
GaN靶材，99.99% 15mmx3.0mm,TG-GaN15D30CN
导电陶瓷靶(1”Dx 0.3 mm t) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
BiFeO3靶材，3”直径x 0.125”厚与铜(铜)底板(0.111”厚)粘结- 氧化铝单晶用于蒸发，纯度99.99%，5 × 5 × 5毫米切割
Al2O3 Target，纯度:99.99%，6.9"x8.9"x0.25"厚，Target-Al2O3-172- 222-0635cn
Ba0.5Sr0.5TiO3目标,99.99%
Zr Target, 99.99%，8.9"x6.9"x0.25"，TG-Zr-222-172-0635CN
铜(1%Ga)靶材，纯度:99.99% 4”直径。x0.25”
Cd目标，纯度:99.999% 2英寸直径。x1/8"带铜底板
高纯度不锈钢靶材，直径2英寸。x 0.3毫米
铜(9)In(11)靶材，纯度:99.99%，直径4”。x 0.125”
实验室精密温控真空热蒸发涂布机
3个旋转靶等离子溅射镀膜机加热器(500C)包括3个靶
紧密型胶带浇铸涂布机w/真空吸盘(8"Wx14"L)，涂膜器和可选100ºC干燥器盖- 微米范围可编程浸涂机(1-500 um/sec)与干燥箱高达100°C
- 5位可编程浸涂机，速度1- 200mm /min，加热腔最大100°C。
Dip涂布机(1- 200mm /min)，带有124 L温度室和触摸面板控制器，适用于16"x 9"的大型基板
可编程真空吸盘旋转涂布机(500-6000转/分钟，8" wafer Max)，可选配加热盖
紧凑型旋转涂布机(最大8000转/分钟，4英寸最大)，3套真空吸盘和完整的附件
经济桌面旋转涂布机(最大8000转/分钟)与完整的配件
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