输入功率

• 单相220 VAC，50/60 Hz
• 1000W（含真空泵、冷水机组）
• 如果电压为110v，可在TMAX订购1500w变压器。

电源

• 包括13.5MHz、100W射频发生器，并与溅射头相连
• 连续工作时间：
• 100W≤1小时
• 80W：≤ 1.5小时
• 70W：≤ 2小时
• 60W:≤4小时
• 50W：≤ 8小时
• 负载范围:0 - 80可调。调谐范围:-200j -200j可调
• 可旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在“等离子体中”切换(在多层过程中没有真空和等离子体断裂)
• 有了直流电源，涂层机可以很容易地改装成1”直流溅射源用于金属薄膜沉积，使三直流，一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置(左下图。请从产品选项中选择)
• 可选300 W自动匹配射频发生器，可额外成本提供

磁控溅射头

• 三个1”磁控溅射头与水冷外套包括，并通过快速夹插入石英室
• 更换射频电缆可在TMAX购买
• 法兰上安装一个手动快门（见图3）
• 一个10升/分钟的数字控制循环水制冷机用于冷却溅射头
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溅射目标

• 目标尺寸要求:1"直径x 1/8"最大厚度
• 溅射距离范围：50–80 mm可调
• 溅射角度范围：0–25°可调
• 1”直径铜靶和铝2.O3.目标包括在演示测试中
• 根据要求，可提供各种氧化物1”溅射靶，费用额外
• 对于目标键合，包括1mm和2mm铜垫板。银色环氧树脂(图1)和额外的铜垫板(图2)可以在TMAX订购

真空室

• 真空室:外径256mm ×内径238mm × 276mm高度，采用高纯石英制成
• 密封法兰:274毫米直径。铝制高温硅o型环
• 不锈钢屏蔽笼，100%屏蔽来自箱体的射频辐射
• 最大真空等级：1.0E-5托尔，配有可选涡轮泵和室烘烤

样品架

• 样品架是由不锈钢盖陶瓷加热器制成的可旋转和可加热的舞台
• 样品夹尺寸:50毫米直径。对。最大2寸晶圆(见下图)
• 转速：1-10 rpm可调，均匀涂层
• holder温度从RT到600°C最大可调(600°C最大5分钟;2小时最大在500°C)精度+/- 1.0°C通过数字温度控制器

真空泵

• KF40真空端口内置，用于连接真空泵。
• 真空度:1.0E-2托，包括双级机械泵
• 1.0E-5托与可选涡轮泵

可选

• 可选配精密石英厚度传感器。可内置在镀膜腔内监测镀膜厚度，精度为0.1 Å(需要水冷却)
• 易于USB连接到PC，实现远程厚度和涂层速度监控
• 包括5个石英传感器（消耗品）
• 可选配温度控制器远程PC控制
• 方便的USB连接到PC进行远程温度控制
• 包括温度控制软件。该模块与LabView兼容
• 直流磁控溅射，推荐涡轮泵（Pic#3）
• 反应溅射与N2.或O2.可选配气体混合控制站。
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大小

• 540 mm长x 540 mm宽x 1000 mm高

净重

• 60公斤

顺从

• CE批准
• MET认证(UL 1450)可提供额外的费用，请联系我们的销售代表报价。

担保

• 一年的有限保修和终身支持

应用笔记

• 这种紧凑的1”射频磁控溅射镀膜机是为在氧化物单晶衬底上涂覆氧化物薄膜而设计的，通常不需要高真空设置
• 气瓶上应安装两级压力调节器(不包括在内)，将气体输出压力限制在0.02 MPa以下，以保证安全使用。请使用> 5N纯度Ar气体进行等离子溅射
• 为获得最佳的薄膜基底粘附强度，请在涂层前清洁基底表面：
• 用以下顺序浴进行超声波清洗-（1）丙酮，（2）异丙醇-以去除油和油脂。用N2吹干基底，然后真空热烤，以去除吸收的水分
• 等离子清洗可能需要表面粗糙化，表面化学键激活，或额外的污染去除
• 在金属和合金的粘附性方面，可以采用Cr、Ti、Mo、Ta等较薄的缓冲层（约5nm）

• 为了获得最佳性能，非导电目标必须安装铜垫板。有关目标键合，请参阅下面的说明视频（ා3）
• TMAX提供从A到Z的单晶衬底
• TMAX射频等离子体溅射镀膜器成功地在Al上包覆ZnO2.O3.在500℃（PIC＃5中的XRD分布）
• 测试薄膜/涂层电极的灵活性EQ-MBT-12-LD芯棒弯曲测试仪.
• 高电压!溅射头连接到高压。为安全起见，操作人员必须在装样和改变目标操作前关闭射频发生器
• 冷水机组中不得使用自来水。用水使用冷却液、DI水、蒸馏水或防腐添加剂
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