特性

• 5磁控溅射枪5种不同的目标材料
• 根据使用的电源(RF或DC)，金属和非金属材料都可以沉积。
• 能够通过不同的溅射时间/速度溅射5个靶材料以产生各种组合物
• 采用可选的5个电源，可以在组合溅射的同时溅射5个目标材料
• 可以用掩模和旋转样品支架沉积16个样品。

输入功率

• 单相220 VAC, 50 / 60 Hz
• 1000w(含真空泵和冷水机)

能量源

• 包括一个13.5 MHz,300 W自动匹配的射频发生器，并连接到溅射头
• 可旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在“等离子体中”切换而不打破真空在多层过程中。
• 多个RF电源是可选的，其允许用户同时溅射多目标用于组合溅射
• 配备控制软件的笔记本电脑可以额外控制每个射频枪的溅射时间和功率

可选

• 您可以为金属靶溅射选择直流电源
• 采用5个直流或射频电源，可同时溅射5种靶材，实现组合溅射

磁控溅射的头

• 包含水冷却夹套的五个1“磁控溅射头并通过快速夹具插入石英室中
• RF电缆更换可在Tmax购买
• 一个手动快门安装在法兰上(见图3)
• 包括一个10L / min数字控制的再循环水冷却器用于冷却溅射头
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溅射目标

• 目标尺寸要求:1"直径x 1/8"最大厚度
• 溅射距离范围:50 - 80mm可调
• 溅射角度范围:0 - 25°可调
• 1“直径Cu目标和Al2O3.目标包括演示测试
• 各种氧化物1 "溅射靶可根据要求提供额外的费用
• 对于目标键合，包括1毫米和2毫米铜垫板。银色环氧树脂(图1)和额外的铜垫板(图2)可以在TMAX订购

真空室

• 真空室由304个不锈钢制成，加强肋
• 真空室内部尺寸:高(~105升，18.5 " x17.5"x 20.5")
• 圆形380毫米直径。铰链式门，带150 mm直径玻璃窗
• 温度范围：-15至150°C
• 真空度:4.0E-5 torr，带涡轮泵

样品架

• 150毫米直径可旋转样品保持器用于涂层16样品用不同组成的一批样品
• 样品架和掩模旋转可通过按钮手动控制，也可通过控制软件自动控制(可选)
• 样品保持器温度可从RT到600°C最大可调节

真空泵

• 内置KF40真空端口，用于连接真空泵。
• 包括一个紧凑的涡轮泵
• 4.0E-5 Torr可选涡轮泵

可选

• 精密石英厚度传感器是可选的。它可以内置在腔室中以监测涂层厚度，精度为0.1Å（所需的水冷却）
• 方便的USB连接到PC远程厚度和涂层速度监测
• 包括5个石英传感器(消耗品)

净重

• 60千克

合规

• CE批准
• 满足认证（UL 1450）可应要求提供额外的费用，请联系我们的销售代表以获取报价。

保修

• 一年有限保修，终身支持

申请笔记

• 这种紧凑的1”射频磁控溅射镀膜机是专为在氧化单晶基底上镀膜氧化物薄膜而设计的，通常不需要高真空设置
• 应安装两级压力调节器（不包括），以将气体输出压力限制在0.02MPa以下，以便安全使用。请使用> 5n纯度Ar气体进行等离子溅射
• 为了获得最好的薄膜-基材附着力，涂布前请先将基材表面清洗干净:
• 用下列顺序浴槽(1)丙酮(2)异丙醇)进行超声波清洗以去除油和润滑脂。用N2吹干基材，然后在真空中热烤，除去所吸收的水分
• 表面粗糙化，表面化学键活化或额外的污染去除可能需要等离子体清洁
• 较薄的Cr、Ti、Mo、Ta等缓冲层(~5 nm)可用于改善金属和合金的附着力

• 为了获得最佳性能，必须使用铜背板安装非导电目标。请参阅下面的指令视频（＃3）进行目标键合
• TMAX提供从A到Z的单晶衬底
• 采用TMAX射频等离子体溅射镀膜技术在铝表面成功地镀膜ZnO2O3.底物在500°C
• 测试薄膜/涂层电极的柔韧性EQ-MBT-12-LD芯棒弯曲测试仪．
• 高压！溅射头连接到高电压。为了安全，操作员必须在样品加载和目标更改操作之前关闭RF发生器
• 切勿在冷水机内使用自来水。使用冷却剂，去离子水，蒸馏水，或防腐添加剂与水
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