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产品
- 生产线电池电极间歇涂布机
- 200C Max。紧凑型实验室自动迷你平板电池膜涂布机(10“WX16”L)用于电池电极涂层
- 实验室薄膜流式涂布机,具有无限变速
- 浸涂机(1-200毫米/分钟),干燥箱可达100°C
- 可编程控制垂直浸涂机
- 带烘箱的电池电极自动卷对卷连续涂膜机
- 实验室大型自动胶片涂布机与真空夹头和可调节的医生刀片
- 实验室桌面槽模具涂布机,用于高精度薄膜涂层
- LAB台式单艘船浸式涂布机
- SI单晶靶,P掺杂(100)3“x 4.0 mm,未抛光-TG-SIPA76D40CN
- Si单晶靶,N型,未掺杂,(100)ORI。,3''DIA x 6.0 mm,细地,R1000欧姆。CM-TG-SIU76D60CN
- ZNS目标,99.99%,4个“DIA X1 / 8”,带铜背板
- Si单晶目标,n型,未掺杂4“x0.25”,未亮笔r:1000 ohm.cm-tg-gan15d30cn
- PBS靶向铜背衬和包层板,纯度:99.99%
- MgO单晶蒸发,5x5x5毫米切割
- 用于蒸发的MgF2单晶,2.8-6mmm单位:克
- 薄膜电池阴极的LinicomnO2靶
- Limn2O4薄膜电池阴极的靶
- LiFepo4薄膜电池阴极的目标
- GaAs单晶用于蒸发,5x5x5 mm切割
- CDWO4单晶用于蒸发,5x5x5 mm切割
- CAF2单晶用于蒸发,5x5x5 mm切割
- GaN Target, 99.99% 15mmx3.0mm,TG-GaN15D30CN
- 导电陶瓷靶(1" Dx 0.3 mm t) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
- BiFeO3靶材,3"直径x 0.125"厚,与铜(Cu)垫板(0.111"厚)结合
- Al2O3单晶用于蒸发,纯度99.99%,切割5x5x5毫米
- Al2O3目标,纯度:99.99%,6.9“x8.9”x0.25“厚,目标-Al2O3-172-222-0635CN
- Ba0.5Sr0.5TiO3目标,99.99%
- ZR目标,99.99%,8.9“X6.9”X0.25“,TG-ZR-222-172-0635CN
- Cu(1%Ga)靶标,纯度:99.99%4“Dia。X0.25”
- CD目标,纯度:99.999%2“直径X1 / 8”,带铜背板
- 高纯度不锈钢靶,直径2英寸。x 0.3毫米
- Cu(9)在(11)靶标中,纯度:99.99%,4“Dia.x 0.125”
- LAB精密温控真空热蒸发涂布机
- 3个旋转靶等离子溅射镀膜机加热器(500C)包括3个靶
- 紧凑型胶带铸造涂布机W /真空吸管(8“WX14”L),薄膜涂抹器和可选100ºC烘干机盖
- 微米范围可编程浸涂机(1-500 um / sec),烘干烤箱可达100°C
- 5位可编程浸渍涂布机,速度为1-200 mm / min,加热室100°C max。
- 浸涂机(1-200毫米/分钟),带124 L温度室和触摸板控制器,用于大型基板,高达16“x 9”
- 可编程真空夹头旋转涂布机(500-6000 rpm,8个“晶圆最大”,配有加热盖
- 紧凑型旋转涂布机(最大8000 rpm,4个“晶圆最大”)带3套真空夹具和完整配件
- 经济桌面旋转涂布机(最大8000 rpm)与完整配件