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- 3个旋转靶等离子溅射镀膜机加热器(500C)包括3个靶
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- 实验室用直流磁控溅射镀膜机与旋转台和冷水机
- 双区域CSS炉,可旋转晶圆架,最高可达5x5”,温度可达800°C
- 实验用贵金属镀膜目标直流磁控溅射镀膜机
- 2英寸射频等离子体磁控溅射镀膜机非导电薄膜
- 实验室DC/RF双头真空2英寸磁控等离子溅射镀膜机
- 组合等离子溅射镀膜机与三个2 "磁控溅射源和RF/DC电源
- 用于MGI薄膜研究的5头射频等离子体磁控溅射镀膜机
- 实验室三头1英寸射频等离子体溅射镀膜机与直流磁控溅射
- 4源热蒸发系统,精密温控
- 具有直流磁控溅射和振动台的实验室粉末PVD涂布机
- 实验室两区CSS炉快速热加工高达3"直径。& 650ºC。
- 四热源超声高真空热蒸发镀膜机(10- 6torr)
- 两区实验室CSS炉用于快速热加工,最高可达5"直径的硅片在最大800°C