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- LAB精密温控真空热蒸发涂布机
- 3旋转靶等离子体溅射涂布机加热器(50℃),包括3个目标
- 两种涂料涂布机:等离子溅射和碳蒸发涂层机
- 实验室直流磁控溅射涂布机,带旋转级和水冷
- 两个区域CSS炉,旋转晶片支架高达5x5“在Max.800°C中
- 实验室直流磁控溅射涂层机,具有贵金属涂层的靶
- 2英寸RF等离子磁控溅射涂布机,用于非导电薄膜
- LAB DC / RF双头真空2英寸磁控镜等离子溅射涂层机
- 组合等离子溅射涂层机,具有三个2'磁控溅射源和RF / DC功率
- 5头RF等离子磁控溅射涂层机,用于MGI薄膜研究
- 实验室3头1英寸RF等离子磁控溅射涂层机,具有直流磁控溅射
- 4源热蒸发系统机,具有精密温度控制器
- 具有直流磁控溅射和振动阶段的实验室粉PVD涂布机
- 实验室两个区域CSS炉,用于快速热处理,可达3“直径。&650ºC。
- 超声波高真空热蒸发涂布机,具有四个加热源(10-6托)
- 两个区域实验室CSS炉,用于快速热处理,最多可达5英寸直径晶圆在Max.800°C